プログラム |
11月25日(水)
10:00〜11:20 |
表面・界面分析概論・電子プローブX線マイクロアナライザ SEM-EDX
副島啓義(島津) |
11:30〜12:30 |
赤外分光とラマン分光の基礎と実際
吉川正信(東レリサーチ) |
12:30〜13:50 |
(昼食)
分析相談コーナー
講師全員
放射光を利用した表面電子状態の分析案内(パネル)
寺岡有殿 (原子力機構) |
13:50〜14:50 |
オージェ電子分光法による表面分析の基礎
岩井秀夫(物質・材料研究機構) |
15:00〜16:00 |
X線光電子分光法と関連分析の基礎
河合 潤(京大) |
16:10〜17:00 |
総合討論
講師全員(司会:加連明也) |
11月26日(木)
9:10〜10:10 |
イオン散乱分析の基礎と高分解能ラザフォード後方散乱
中嶋 薫 (京大) |
10:20〜11:20 |
二次イオン質量分析法による表面解析の基礎(D-SIMS,S-SIMS,TOF-SIM)
森田弘洋(パナソニック) |
11:30〜12:30 |
高分解能電子顕微鏡と断面TEM試料作製(HRTEM,STEM,3D-TEM)
一色俊之(京都工繊大) |
12:30〜13:40 |
(昼食)
分析相談コーナー
講師全員 |
13:40〜14:40 |
走査プローブ顕微鏡の基礎と極限計測
重川秀実(筑波大) |
14:50〜16:10 |
表面X線・電子線回折、X線反射率法の基礎(やさしい逆空間の理解)
藤居義和(神戸大) |
16:20〜17:00 |
総合討論
講師全員(司会:大門 寛) |
詳細はURL(http://www.sssj.org/KisoKouza/kiso48.html)をご参照ください。 |