| 日 時 |
2009年9月29日（火）〜30日（水） |
| 会 場 |
東京理科大学 森戸記念館
（東京都新宿区神楽坂4-2-2 TEL03-5225-1033） |
| 主 催 |
社団法人日本表面科学会 |
| 協 賛 |
日本分光学会、応用物理学会、日本物理学会 ほか |
| プログラム |
第1日（9月29日）
1.最新の成膜機器 （キヤノンアネルバ）辰巳徹
2.最新のCVD （北陸先端大）松村英樹
3.表面分析手法による薄膜評価 （コベルコ科研）渡部孝
4.Ｘ線による薄膜評価 （リガク）表和彦
5.FIB-(S)TEMによる薄膜評価 （東レリサーチ）杉山直之
6.薄膜の機械的特性評価 （NIMS）大村孝仁
第2日（9月30日）
1.薄膜の密着性評価 （日産アーク）叶際平
2.表面改質とトライボロジー （東京理科大）佐々木信也
3.熱電変換素子と熱物性 （名大）河本邦仁
4.薄膜太陽電池 （豊田工大）大下祥雄
5.グラフェンの形成と機能 （東北大）末光眞希
6.有機薄膜とデバイス （産総研）阿澄玲子 |
| 受講料 |
協賛学協会会員30,000円
学生10,000円
(含むテキスト，消費税) |
| 申込締切 |
2009年9月15日（火）
下記ホームページよりお申込みください。
http://www.sssj.org/Hakumaku/Hakumaku_12.html |
| 定 員 |
80名（定員に達し次第〆切ります） |
| 連絡先 |
（社）日本表面科学会 第12回薄膜基礎講座係
TEL. 03-3812-0266 FAX. 03-3812-2897
E-mail：shomu＠sssj.org
URL：http://www.sssj.org |