| 主 催 |
（公社）日本分析化学会X線分析研究懇談会 |
| 共 催 |
筑波大学大学院数理物質科学研究科 |
| 協 賛 |
(公社)日本分光学会，(公社)日本化学会，(公社)応用物理学会 他 |
| 会 期 |
2016年10月26日（水）〜 2016年10月28日（金） |
| 会 場 |
筑波大学東京キャンパス文京校舎
（会場住所：〒112-0012 東京都文京区大塚3-29-1 |
| 討論主題 |
- (1) 新X線源による新たな分析の可能性
- (2) 埋もれた薄膜界面のX線分析
- (3) X線検出器技術の新展開
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| 講演申込期間 |
2016年7月1日（金）～2016年7月27日（水）
- 第52回X線分析討論会ホームページ(http://www.nims.go.jp/xray/xbun/X52/)上で申し込みを受け付けます．
- 口頭・ポスター発表の区別は実行委員会にご一任ください．
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| 講演要旨受付期間 |
2016年8月1日（月）～2016年9月5日（月）
- 上記期間内に2ページ以上4ページ以下（招待講演者の方は6ページ以上8ページ以下）の講演要旨の電子ファイルをご提出ください．講演申し込み受付時にテンプレートをお渡しします．
- ぜひ「X線分析の進歩」（アグネ社）へのご寄稿もお願いします（原稿受付期間は8月1日（月）～10月28日（金）です）．講演申し込み受付時に投稿要領とテンプレートをお渡しします．
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| 予約登録期間 |
2016年7月1日（金）～2016年7月31日（日）
- 参加登録料は一般 4,500円，学生 3,000円です．8月1日以降に参加登録をされた場合は，一般 6,000円，学生 3,000円となります．なお，参加登録料の入金後の払い戻しはいたしかねます．
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| 連絡先 |
桜井健次
（〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
国立研究開発法人物質・材料研究機構高輝度光解析グループ，
E-mail: sakurai@yuhgiri.nims.go.jp
（学術・研究機関以外のドメインからメールを送られる方は，
事前にFAX: 029-859-2801 までご連絡ください））
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