| 主 催 |
日本表面科学会 |
| 協 賛 |
日本分光学会ほか |
| 日 時 |
2014年7月25日(金) |
| 会 場 |
東京工業大学本館3階 理学系第2会議室 (345号室)
〒152-8551 目黒区大岡山2-12-1 TEL：03-5734-2071 |
| プログラム |
- 「グラフェンをはじめとした二次元原子膜のCVD成長」
吾郷浩樹（九大先導研）
- 「ナノグラフェンの化学と電子物性」
藤井慎太郎（東工大院理工）
- 「グラフェンにおける局所格子ひずみによる物性制御」
神田晶申（筑波大数理物質）ほか
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| 参加費 |
協賛学協会会員：2,000円,学生：1,000円,一般：4,000円 |
| 申込締切 |
2014年7月23日（水） 定員60名 |
| 申込先 |
公益社団法人日本表面科学会事務局
〒113-0033東京都文京区本郷2-40-13本郷ｺｰﾎﾟﾚｲｼｮﾝ402
TEL：03-3812-0266 FAX：03-3812-2897
E-mail：shomu@sssj.org URL：http://www.sssj.org
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| 問合せ先 |
東京工業大学理工学研究科 木口 学
TEL／FAX: 03-5734-2071
E-mail: kiguti@chem.titech.ac.jp
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