主 催 |
日本表面科学会 |
協 賛 |
日本分光学会ほか |
期 日 |
2014年6月4日(水)〜5日(木) |
会 場 |
大阪大学コンベンションセンター(大阪府吹田市山田丘1-1) |
プログラム |
第1日(6月4日)
1.表面・界面分析概論、真空技術基礎(奈良先端大)大門 寛
2.走査プローブ顕微鏡(SPM)(大阪大)菅原康弘
3.放射光を利用した表面分析相談(パネル)(原子力機構)吉井賢資
4.走査電子顕微鏡、電子プローブマイクロアナライザ(SEM/EPMA)(島津製作所)林 広司
5.透過電子顕微鏡(TEM,STEM)(大阪大)保田英洋
6.イオン散乱分光法(京都大)中嶋 薫
第2日(6月5日)
1.二次イオン質量分析法(D-SIMS/S-SIMS)(パナソニック)森田弘洋
2.表面における赤外分光法、ラマン分光法(東レリサーチセンター)村木直樹
3.オージェ電子分光法(AES)(日本電子)池尾信行
4.X線光電子分光法(XPS)(富士通研)中村 誠
5.表面回折手法(RHEED/LEED)(大同大)堀尾吉已 |
受講料 |
協賛学協会会員:30,000円 学生:5,000円
その他:35,000円(テキスト代,消費税を含む) |
申込締切 |
5月30日(金) 定員100名(申込先着順締切) |
申込及び問合せ先 |
日本表面科学会 TEL:03-3812-0266
〒113-0033東京都文京区本郷2-40-13本郷コーポレイション402
E-mail:shomu@sssj.org URL:http://www.sssj.org |
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