主 催 |
日本表面科学会 |
協 賛 |
日本分光学会ほか |
期 日 |
2013年2月19日(火)〜20日(水) |
会 場 |
東京理科大学 森戸記念館 第2フォーラム
(東京都新宿区神楽坂4-2-2) TEL03-5225-1033 |
プログラム |
第1日(2月19日)
1.概論:薄膜は人類に何をもたらしたか(東京大)深津晋
2.薄膜の作成と加工:成長技術入門 (東京大)深津晋
3.薄膜の評価:何をどう評価すべきか(富士通研)中村友二
4.構造評価:表面分析ツールは適材適所 (富士通研)中村友二
5.機能・物性向上に向けて必要なこと (富士通研)中村友二
6.デモ実験 & 質問・相談タイム (東京大)深津晋・(富士通研)中村友二
第2日(2月20日)
1.薄膜とバルクの違い:薄膜だからできる (東京大)深津晋
2.特性改善:目的に応じて異なる膜の良否 (富士通研)中村友二
3.加工技術:かたちづくりが死命を制す (富士通研)中村友二
4.電子デバイスの薄膜技術:最新事情 (富士通研)中村友二
5.環境・エネルギーは薄膜から (東京大)深津晋
6.デモ実験 & 質問・相談タイム (東京大)深津晋・(富士通研)中村友二 |
受講料 |
協賛学協会会員:29,500円,学生:6,500円, その他:34,500円 (書籍代、別冊資料代、消費税を含む) |
申込締切 |
2013年2月13日(水) |
定 員 |
80名(申込先着順締切) |
申込及び問合せ先 |
日本表面科学会事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷2-40-13
本郷コーポレイション402
TEL:03-3812-0266,FAX:03-3812-2897
E-mail:shomu@sssj.org URL:http://www.sssj.org |